韩国半导体厂商研发石墨烯膜技术 芯片良率有望提高

据报导，韩国本土的半导体和显示材料开发商——石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) ，有望显著提高荷兰半导体设备公企业艾司摩尔 (ASML ) 的极紫外光微影曝光设备 (EUV) 的良率。

根据 BusinessKorea 的报导，半导体和显示材料开发商石墨烯实验室 (Graphene Lab) 日前宣布，其已开发出使用石墨烯制造、小于 5 奈米的 EUV 光罩护膜 (Pellicle) 技术，并已准备好进行量产。

据了解，光罩保护膜是一种薄膜，可保护光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响，这对于 5nm或以下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。另外，光罩保护膜也是一种需要定期更换的消耗品，而由于EUV光刻设备的光源波长较短，因此护膜需要较薄厚度来增加透光率。

硅以前已被用于制造EUV薄膜，石墨烯实验室CEO Kwon Yong-deok表示，石墨烯比硅更薄、更透明，石墨烯制的EUV薄膜将作为使用EUV光刻设备良率的助推器。

报导还强调，EUV光罩护膜必须能够承受曝光过程中发生的 800 度或更高的高温，而基于石墨烯材料的光罩保护膜在高温下的硬化特性要好，相比之下硅制产品非常容易破裂。Graphene Lab 指出，一旦石墨烯 EUV 光罩护膜受到采用，估计全球护膜市场到 2024 年将达到 1 兆韩圜的情况下，将有其极大商机。尤其，包括台积电、三星电子、英特尔等半导体企业会是是 Graphene Lab 的潜在客户。