SK海力士将使用子公司的KrF PR,用于238层NAND闪存
发布时间:2023-11-20 15:00:00 阅读量:369
据报道,SK海力士在2020年以约22.2亿元人民币的价格收购了锦湖石油化学的电子材料业务部门。最近,据The Elec报道,SK海力士开发的厚氟化氪(KrF)光致抗蚀剂(PR)已经通过了该公司的质量检验。
三星所使用的是Dongjin semhem公司的产品,该产品与SK海力士的KrF PR类似,厚度约为14至15微米。SK海力士将核心材料的研发工作交由其子公司进行,这使得其旗下的存储器产品在市场上比竞争对手更具有竞争力。随着明年存储器市场逐渐恢复正常,SK海力士的KrF PR销售额也将随之增长。此外,日本的JSR公司也正在研发其自己的PR产品,该产品的厚度为10微米。
在NAND闪存的生产过程中,需要使用更加“厚”一些的PR,因为这样更适合进行堆叠。例如,在生产100层的NAND芯片时,一层层制作的成本会变得更高,而更厚的PR则可以让存储器制造商一次性制造多个层。然而,更厚的PR具有更高的粘度,这会对均匀性产生负面影响,因此在开发过程中面临更大的挑战。
目前,SK海力士的计划是将KrF PR用于238层NAND闪存芯片的生产,并将JSR作为次要供应商,两种产品都将被使用。目前,SK海力士每月生产约5000片238层NAND闪存的晶圆,随着KrF PR的引入,预计产量将大幅度提高。此外,SK海力士还在推动其他半导体生产所需的关键材料的国产化工作。
据悉,SK海力士早在去年8月,就已宣布成功研发全球首款业界最高层数的238层NAND闪存,并向合作伙伴发送238层512Gb TLC 4D NAND闪存的样品。
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