阿斯麦和三星联手投资76亿美元共建芯片研究中心

光刻机大厂ASML宣布，与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元（7.62亿美元）在韩国建设一个研究中心，该工厂将使用下一代极紫外（EUV）光刻技术，该技术由阿斯麦独家提供，用于生产高端芯片。

除了三星电子外，另一家韩国芯片巨头SK海力士（SK Hynix）也与阿斯麦达成了一项协议，双方将合作开发氢气回收技术，以在芯片制造过程中减少能耗，并节约成本。

阿斯麦是世界上最大的光刻系统制造商，这种设备在制造半导体的过程中起着至关重要的作用。阿斯麦同时也是全球唯一的EUV光刻机供应商。台积电（TSM.US）、三星和英特尔（INTC.US）将EUV光刻机用于最先进的芯片制造。

据悉，三星电子、英特尔、台积电等均采购了该公司的极紫外光刻机设备，该设备是量产5纳米至7纳米及以下先进半导体所必需的设备。据报道，截至去年，台积电位于中国台湾的制造工厂拥有约100台EUV设备，而三星则拥有约40台EUV设备。

目前，全球芯片制造商正在竞相争取供应紧张的阿斯麦EUV设备订单。去年，该公司销售了42台EUV设备，每台设备的价格在2500亿-3000亿韩元之间。

三星电子于2022年6月推出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的3纳米半导体芯片制程技术后，三星一直在努力确保能采购更多EUV光刻机，目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3纳米制程技术，2025年进入2纳米制程技术，并在2027年进入1.4纳米半导体制程技术领域。