光刻胶市场预计下降6-9% 明年或将迎来复苏

据报道，集邦咨询在最新报告中指出，2023年全球半导体光刻胶市场销售收入预计将同比下降6-9%。随着下游客户库存的持续改善、产能利用的逐步恢复以及人工智能和智能汽车等应用的成熟和激增，预计半导体行业将在2024年迎来复苏。

半导体光刻胶市场也有望反弹，市场规模将恢复到2022年的历史峰值，并进一步增长，到2027年将超过28亿美元。据悉，先进的半导体工艺除了依赖光刻机之外，还依赖光刻胶。光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，它是光刻工艺中的关键材料，主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业。

目前，全球光刻胶市场主要由东京应化工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进世美肯等制造商主导，其中日本制造商供应比例约为80%。在日本公司占据主导地位的EUV、ArFi/ArF等先进光刻胶领域，JSR、TOK和信越化学等公司占据绝对主导地位。

据报道，日本住友化学旗下子公司Dongwoo Fine-Chemistry计划提高其面向韩国半导体公司的KrF和L-line光刻胶价格，涨幅预计在10%到20%之间，原因是原材料和劳动力成本不断上涨。这些消息表明，半导体行业在当前环境下面临着许多挑战。