国家科技重大专项项目通过验收 南大光电交出满意答卷!

随着半导体线路图形越来越小，光刻工艺对光刻胶的需求量也越来越大，半导体光刻胶市场需求快速增长，预计未来5年年均增速约8%-10%；中国半导体用光刻胶市场规模约23亿元人民币，预计未来5年年均增速约10%。光刻胶是芯片制造不可或缺的重要原料，是光刻机进行硅膜片曝光、设计图案印章的核心材料。作为国内光刻胶主要供应商的代表，南大光电在光刻胶领域中持续破冰。在美日半导体技术垄断的背景下，南大光电依旧完成了有关高端芯片原料技术的突破。

南大光电官方发布公告：“关于公司承担的国家科技重大专项（02 专项）”已通过专家组验收。其中包括极大规模集成电路制造装备及成熟工艺、先进 7 纳米光刻胶产品开发与光刻胶供给链产业化。作为牵头单位，承担的国家科技重大专项(02专项)“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”之“先进光刻胶产品开发与产业化”项目，今日收到极大规模集成电路制造装备及成套工艺实践管理办公室下发的项目综合绩效评价结论书，项目通过了专家组验收。

据悉，光刻胶项目总体目标是开发高端集成电路制造用 ArF 干式与浸没式光刻胶成套工艺技术，形成规模化生产能力；构建与集成电路行业国际先进水平接轨的技术和管理人才团队等等。项目分为三个子课题，南大光电控股子公司宁波南大光电材料有限公司（以下简称宁波南大光电）承接了其中的“ArF 光刻胶产品的开发和产业化”课题。

专家组评定后认为，通过项目的实施，宁波南大光电掌握了 ArF 干式和浸没式系列光刻胶产品的原材料制备、配胶、分析检测、应用验证等关键技术，在知识产权和人才培养等方面取得重要进展。形成了由 51 人组成的 ArF 光刻胶研发与生产管理团队，建成了 ArF 光刻胶产品的质量控制平台、年产 5 吨的干式 ArF 光刻胶及年产 20 吨的浸没式 ArF 光刻胶产业化生产线。实现 ArF 光刻胶产品销售，完成了任务合同书规定的主要考核指标。

值得一提的是，适用于高端集成芯片制备，可用于7纳米芯片制造的ArF干式、浸没式光刻胶；南大光电成功交付给专家组验证。有关于南大光电ArF光刻胶的更多信息，负责验收南大光电ArF光刻胶的专家组表示：南大光电在ArF干式、浸没式系列光刻胶产品上，实现了从原材料制备到应用的自给化，有关光刻胶生产的配胶、分析检测等技术环节，南大光电也全部掌握。

无论是国内市场、还是产品竞争力，南大光电并不比国外的光刻胶企业差，更何况南大光电已经完成了7纳米光刻胶的验证、交付。但有一点需要注意：有关7纳米ArF光刻胶的应用，南大光电目前只是小规模投产，与之相关的生产线正在构建当中。补充一点，专利方面；截至2021年，南大光电申请专利总计91项、国内发明专利有81项、国际发明专利4项、实用新型专利6项（已授权）、制定团体标准3项、研制新产品2项。