ASML将推出2纳米制造设备 英特尔已预订6台

消息称，荷兰半导体设备制造商ASML计划在未来几个月内推出新一代芯片制造设备，该设备将支持2纳米制程节点，并将数值孔径（NA）光学性能从0.33提高到0.55。这一技术的推出对于半导体行业来说将是一项重大的突破。据悉，三星计划在2025年底开始生产2纳米芯片，而ASML的新设备将有望为三星提供关键支持。

据称，ASML 明年规划产能仅有 10 台，而英特尔已经预订了其中 6 台，不过 ASML 计划在未来几年内将此设备产能提高到每年 20 台。

目前，ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX:3400C、NEX:3400D，NA只有0.33，对应的分辨率为13nm，可以生产金属间距在38-33nm之间的芯片。

ASML 发言人曾透露，EXE:5200 是 ASML 下一代高 NA 系统，具有更高的光刻分辨率，可将芯片缩小 1.7 分之一，同时密度增加至 2.9 倍。

NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。

英特尔发言人称，公司将成为 ASML 第一台 EXE:5200 的买家。与 EXE:5000 相比，EXE:5200 预计将带来几项改进，包括更高的生产率等等。

至于这种先进光刻机的价格，没有官方数据，不同报告估计在单台成本就要3-4亿美元，相当于人民币22-29亿元。