韩国引入阿斯麦ASML建EUV再制造工厂 欲占全球半导体领导地位

据韩国媒体BusinessKorea报道，韩国产业通商资源部于5月13日对外宣布，全球光刻机龙头大厂阿斯麦（ASML）计划在韩国建设光刻设备再制造工厂及培训中心，新厂预计在2025年建设完成。

所谓再制造，指的是以旧的机器设备为毛坯，采用专门的工艺和技术，在原有制造的基础上进行一次新的制造，而且重新制造出来的产品无论是性能还是质量都不亚于原先的新品。据了解，阿斯麦将投资2400亿韩元(约合2.12亿美元)，于2025年在京畿道华城市建立一座EUV光刻设备再制造厂以及一家培训中心。该公司表示，培训中心旨在培养新的EUV操作员，则有助于帮助韩国芯片制造商就近培训新的极紫外光刻机操作人员。

对芯片制造商来说，先进的极紫外光刻机至关重要，目前最先进的5nm制程工艺，需要大量的极紫外光刻机，目前ASML是全球唯一一家能够生产EUV光刻机的半导体设备供应商。但是ASML的EUV光刻机产能十分有限，一年只能生产30台左右EUV光刻机。

韩国媒体报道称，目前台积电已取得了50台EUV设备，而三星仅有10台。光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。镀膜光刻机是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。

近年来，随着芯片制程的微缩，高端EUV光刻机成为各大芯片巨头必争的制高点。半导体行业正面临摩尔定律的极限问题，但ASML、台积电等巨头却一马当先研制出更高精度的光刻机和工艺制程，让摩尔定律有希望延续。

韩国政府野心勃勃决心建世界最大芯片制造基地，曾表示将为建造半导体设施的公司提供巨大的税收优惠，承诺要在目标年投资超过510万亿韩元（4,500亿美元）用于项目研发。将为新芯片技术研发项目的投资提供40％至50％的税收抵免，为新工厂的支出提供10％至20％的税收抵免。此次韩国引入光刻机巨头ASML厂，应该就是韩国为保持全球半导体领域的关键角色，而做出的关键决策和努力之一，预计将给三星及韩国半导体产业链等带来巨大的长期利益。