三星首次引进本土EUV光刻胶 打破日企垄断

从报道来看，三星已经将韩国本土公司研发的EUV光刻胶（EUV PR），用于一条半导体工艺线生产。在2019年经历与日本的光刻胶等关键原料的供应风波之后，三星电子就在尝试将关键原料的供应本土化，经过3年之后，他们也在极紫外光刻胶上取得了进展。

报道显示，在日本限制出口、三星电子尝试重构极紫外光刻胶的供应链之后，东进世美肯就已开始研发极紫外光刻胶，并在去年通过了三星电子的可靠性测试，三星电子随后在不到一年的时间里就用于他们的一条工艺线。

不过，一条生产线仅是三星整个产品线中的一小部分，但是这是完全不依赖进口产品的生产线，因此具有特殊的意义。由于需要考虑与海外供应商之间的关系等多重因素，目前还不清楚三星电子是否会将东进世美肯的极紫外光刻胶，用于更多的工艺线。

据了解，光刻胶是半导体曝光工艺中的关键材料，它应用于芯片生产上。当用半导体曝光设备照射光时，会发生化学反应并改变物理性质，通过用显影剂冲洗掉PR来绘制微电路，只留下必要的部分。

此外，极紫外光刻胶可用于3-50道程序，目前也还不确定东进世美肯的光刻胶会用于哪一工艺程序。虽然东进世美肯目前向三星电子供应的极紫外光刻胶，在供应量上还不大，但他们的极紫外光刻胶的表现，预计将决定未来的供应是否增加。