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日本Rapidus引入光刻机 并派员工学习EUV技术

发布时间:2023-12-06 15:12:00 阅读量:535

日本芯片公司Rapidus正在北海道建设芯片工厂,目标是2027年量产2nm制程芯片。该公司12月5日宣布,决定在2024年年底引入EUV光刻机,并且将派遣员工赴荷兰阿斯麦学习EUV极紫外光刻技术。 

Rapidus 2023年以来一直在与IBM、ASML、IMEC等公司合作,目标是今年派遣100名员工至IBM、ASML学习先进芯片技术。截至目前,该公司已雇佣了约300名员工。

日本Rapidus引入光刻机 并派员工学习EUV技术

作为全球最大的光刻机制造商,也是唯一一家EUV光刻机制造商,ASML此前也决定在日本北海道千岁市设立技术支援部门,就近支持Rapidus芯片工厂。Rapidus第一座工厂“IIM-1”已在2023年9月动工,试产产线预计2025年4月启用,2027年开始量产。该公司表示,在正式量产前,将确保招募1000名员工。

阿斯麦是全球最大的半导体制造设备供应商,尤其在光刻机领域处于领先地位,并且拥有极紫外光刻(EUV)技术的垄断地位。EUV技术是实现5纳米至7纳米以下先进芯片量产的关键技术,因此阿斯麦的支持对于Rapidus公司来说至关重要。


标签: Rapidus

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