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媒体报道
尼康推出全新ArF浸没式光刻机 价格便宜30%
近日,尼康宣布,将于2024年1月正式推出ArF 193纳米浸没式光刻机“NSR-S636E”,生产效率、套刻精度都会有进一步提升。据悉,尼康这款曝光机采用增强型iAS设计,可用于高精度测量、圆翘曲和畸变校正,重叠精度(MMO)更高,号称不超过2.1纳米。
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行业新闻
ASML表示将于年底前交付高端DUV光刻机
近日,ASML宣布将在年底前向中国客户交付部分先进的芯片制造设备。
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媒体报道
光刻机巨头ASML透露High-NA EUV设备于2025年量产出货
据媒体报导,光刻机设备龙头阿斯麦(ASML)执行副总裁Christophe Fouquet近日在比利时imec年度盛会ITF World 2023表示,半导体产业需要2030年开发数值孔径0.75的超高NA EUV光刻技术,满足半导体发展。
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行业新闻
光刻机巨头ASML回应荷兰半导体出口管制新规
关于荷兰政府宣布即将出台的半导体设备出口限制的信息,ASML在官网发布了关于荷兰增加出口管制的声明。ASML表示,这些新的出口管制主要针对先进的芯片制造技术,包括最先进的沉积和浸没式光刻工具。由于这些即将出台的法规,ASML将需要申请出口许可证才能装运最先进的浸没式DUV系统。
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媒体报道
光刻机巨头ASML在台新厂预计将在明年7月动工
据报道,ASML将扩大在台湾的投资ASML在台湾省的新工厂预计将于明年7月开工建设,这是该公司在当地的最大投资,并计划将欧洲供应链带到台湾省。
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行业新闻
ASML宣布将韩国销售额目标增大至147.5亿欧元
统计发现,ASML在美国的销售额已经连续三年下滑,截至2021年累计减少了20%。阿斯麦尔自然不会看着这样的情况一直持续下去的。近日,据韩国媒体报道,ASML将其2025年在韩国的极紫外(EUV)光刻机销售目标提高到20万亿韩元(约合147.5亿欧元)。这个数字是去年的两倍多。这主要得益于三星电子和SK海力士的投资大幅增加。
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行业新闻
英特尔订购顶级光刻机 斥资3.4亿美元需数年后发货
近年来,对10nm以下先进制程的需求不断增长,也增加了EUV曝光设备的供应。由于EUV设备加工复杂,ASML年产量也很小。最近,ASML 正专注于提高其产能和供应量。在全球范围内,作为EUV光刻机的唯一供应商,ASML在业内受到的关注度越来越高,特别是以台积电为代表的先进制程发展得风生水起的当下,ASML的重要性与日俱增。
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行业新闻
芯片产业前景广阔 光刻机巨头阿斯麦(ASML.US)上调2025年营收预期
据财联社报道,全球光刻机龙头阿斯麦将在当地时间周三午后举行投资者日。电脑芯片制造商的主要供应商之一阿斯麦(ASML.US)周三上调了财务预期,并表示,由于市场对其产品的需求旺盛,该公司到2030年的年收入增幅将达到11%左右。阿斯麦表示,公司正受益于所谓的“电子行业的全球大趋势”,这将为芯片制造商带来7.4%的年度增长,而阿斯麦将占据其中相对较大的份额。
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行业新闻
ASML新一代EUV光刻机价格高昂如公共汽车般大 速度快效率高!
据外媒称,ASML 已经开始制造新一代极紫外(EUV)光刻机,其每台造价达到了 1.5 亿美元,约合人民币近 97 亿元。据了解在位于美国康涅狄格州郊区的一间大型洁净室里,ASML 工程师们已经开始为一台机器制造关键部件,这台机器有望让芯片制造行业沿着摩尔定律至少再走上 10 年时间。