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媒体报道
Intel成功拿下全球首台High-NA EUV光刻机
芯片巨头英特尔近日喜获业内首台具有 0.55 数值孔径(High-NA)的 ASML 极紫外(EUV)光刻机,将助力其在未来几年实现更先进的芯片制程。与之形成鲜明对比的是,另一巨头台积电则按兵不动,似乎并不急于加入这场下一代光刻技术的竞赛。业内分析师预计,台积电可能要到 2030 年甚至更晚才会采用这项技术。
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行业新闻
英特尔大规模量产Intel 4工艺 采用EUV光刻
英特尔宣布在位于爱尔兰的Fab 34晶圆厂成功安装和调试了EUV(极紫外)光刻机,并已正常启用,准备开始Intel 4工艺的量产。 这将标志着极紫外 (EUV) 光刻技术首次用于欧洲批量生产。
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媒体报道
ASML60台EUV光刻机出货 每台价格超10亿元
随着半导体工艺进入到5nm节点以内,对EUV光刻机的需求也不断增长,目前全球只有ASML一家公司能够生产EUV光刻机,今年的出货量还会进一步提升。
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媒体报道
EUV光刻机耗能巨大 芯片制造商面临挑战
据彭博社报道,ASML新一代EUV每台耗电约1百万瓦,三星、台积电等芯片制造大厂能源消耗巨大;台积电对化石燃料高度依赖,2025年耗能估占中国台湾省的12.5%。